中國產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng)訊：在半導(dǎo)體制程中，曝光制程非常重要，因此作為其核心材料的光刻膠占較大的生產(chǎn)成本，在技術(shù)與產(chǎn)業(yè)方面的重要性也非常高。根據(jù)北京中經(jīng)先略投資咨詢中心最新發(fā)布的《中國光刻膠市場現(xiàn)狀分析及前景預(yù)測報告》顯示：2011年用于韓國國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的光刻膠量約為25萬~30萬加侖，產(chǎn)值約達3,000億韓元(約2.58億美元)的規(guī)模。

　　用于韓國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的光刻膠中，KrF(KrF Eximer Laser，248nm曝光)的市占率約達5成，而ArF Immersion(ArF EximerLaser，Wet制成，193nm曝光)與ArFDry(ArFEximerLaser，Dry制成，193nm曝光)的合計市占率約達25%;另外，高價位光刻膠ArFImmersion產(chǎn)品的年銷售額，約達1,000億韓元。

　　韓國的內(nèi)存與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)擁有全球領(lǐng)先的技術(shù)實力，因此光刻膠企業(yè)也非常重視韓國市場。供應(yīng)韓國企業(yè)光刻膠的廠商有2家韓國廠商，包括東進化學(xué)、錦湖石油化工，另外有5家日本廠商，包括住友化學(xué)、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收購羅門哈斯(Rohmand Haas)的陶氏化學(xué)等。