高頻科技相關負責人介紹,半導體生產需要使用大量的超純水,一個大型Fab工廠,在半導體制造過程中每天需使用5～6萬噸水,接近一個百萬人口城市每天的用水量,是名副其實的“水老虎”。因此半導體生產不僅對超純水的純度要求極高,對廢水處理環節要求也極度苛刻。

一直以來,高頻科技積極尋求水處理的技術突破,致力為半導體高端制造等行業客戶,提供領先的超純水與循環再生解決方案及裝備,一直通過自研或聯合研發的模式,不斷提升半導體回用水系統及廢水收集處理系統的工藝技術,逐漸趨近“零排放”來實現水資源及其他相關資源的循環再生。

高頻科技回用水系統及廢水收集處理系統,可以幫助半導體企業減少廢水量、減少用水量、減少能耗、減少化學品使用、減少設備使用損耗,通過保障環保指標、保障水制程回收率、保障微量元素回收利用來實現對綠色廠務水平的綜合保障。

據了解,目前高頻科技已經研發交付了超過30種可選回用水工藝技術,包括砂濾及碳濾器反洗水回用、砂濾及碳濾器正沖水回用、反滲透濃縮水回用、EDI和UF濃縮水回用、反滲透沖洗水回用、冷卻塔排放水回用、低濃度有機廢水回用、混床再生沖洗水回用、低濃度含氟廢水回用、洗滌塔排放水回用、儀表排放水回用等,不斷提升“制程回收率”,從工藝技術上實現“零排放”。

事實上,半導體生產過程中的廢水收集與處理種類紛繁復雜,也為“零排放”的工藝帶來了極大的難度。

典型的半導體制程機臺采用不同的清洗工藝,會分流出包含氫氟酸廢水、制程洗滌廢水、酸性廢水、堿性廢水、TMAH廢水、研磨廢水、研磨含銅廢水等36種不同含量的廢水。廢水分流之后,通過氫氟酸廢水收集、尾氣洗滌廢水收集、酸性廢水收集、堿性廢水收集等至少12種收集系統的回收,再針對不同廢水類型,通過物理、生化、臭味去除等基本工藝進行酸堿廢水處理、氨氮廢水處理、TMAH廢液回收、研磨廢水處理、研磨銅廢水處理等等,最終在實現水資源的循環利用(3.5次水再利用率)的同時,也完成了硫酸銨、氨水、石膏、TMAX、硫酸和銅棒等高價值資源的回收。

高頻科技相關負責人指出,芯片產業之所以被認為是耗水大戶,傳統意義的廢水處理存在水資源利用率過低也是重要原因之一,,而高頻科技基于在半導體超純水領域深耕二十余載的經驗與積累,不斷優化與提升廢水循環再生工藝,最大限度提升水制程回收率,目前已經可以達到75%-90%,讓每一滴超純水都可以循環再利用,幫助企業廢水變清流,助力企業自身提質增效,保障企業長遠發展。