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蘋果新專利曝光：iPhone7將回歸iPhone4設計？
2015/7/26 8:33:40 來源:中國產業發展研究網 【字體：大 中 小】【收藏本頁】【打印】【關閉】
核心提示： 雖然媒體最近都將目光放在iPhone6s上,但蘋果顯然不太想讓這款產品曝光的更多。最近蘋果一份新的專利曝光,在下一代蘋果iPhone7上,更為經典的iPhon雖然媒體最近都將目光放在iPhone6s上,但蘋果顯然不太想讓這款產品曝光的更多。最近蘋果一份新的專利曝光,在下一代蘋果iPhone7上,更為經典的iPhone4造型會更加醒目。
在這份專利中顯示,蘋果公司正在研發一種能夠使智能手機金屬邊框平坦有光澤同時邊緣銳利的新方法。從專利設計上可以看出,iPhone7的設計非常接近于當年大獲成功的iPhone4。當然,專利上的設計僅僅只是一種可能,至于iPhone7是否真的會采用這種設計,還是等到明年9月份吧。
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